镀膜进程监控

发布时间:2019-08-02 08:21:15

在镀膜进程中需求对一些主要参数进行监控,如膜层厚度、成分、表面光洁度、光透射率、反射系数、偏振特征等,都可以哄骗光谱学和双光束干涉的步调进行测量。光纤的使用为监控进程提供了灵巧的工具,可以使光方便地参加或导出远方的真空超净室,而且可以同时为膜层明晰提供众个几何量的测量挑选。膜层的照明和发光的探测可以在相对于膜层的各异光纤地位进行,可以测量镜面反射、漫反射、传输、偏振、干涉、荧光和拉曼散射等。可以哄骗众根光纤同时监测众个参数,或者在各异的空间地位或掩模前提下同时测量。

用几个恰当机关的光纤探头,就可以在线监测生产的全进程。在一些排场中,可以通过监测离子源(如等离子源)的光谱辐射来确定镀膜进程中的前提功效。

对于人人数此类监测系统来说都需求格外的施行机关,我们可认为您提供适应您应用的施行机关,这里仅举一个应用系统的例子。

      在这里使用一个反射型光纤探头来在线监测镀膜生产进程。光纤通过过真空装置参加真空室,然后传到反射探头上。反射光经过另一个过真空装置,参加光谱仪的一个测量通道。反射型探头可以用SMA接洽拆下。还可以再引申一个光谱仪通道,用来进行参考测量或补偿光源本身的波动对测量收成的用意。


光谱仪

AvaSpec-ULS2048(200-1100nm)

软件

AvaSoft-Full软件和XLS或PROC应用软件

光源

AvaLight-DH-S-BAL平衡光谱型氘-卤素灯

光纤探头  

1根FCR-7UV200-2-ME反射型光纤探头,1根FC-UV600-2光纤和1根FC-UV200-        2光纤

过真空装置

FC-VFT-UV200和FC-VFT-UV600